1. 纯度分析:采用辉光放电质谱法(GDMS)测定金属材料中痕量杂质元素(B, C, O, N等),检出限达0.01-1 ppb
2. 晶格缺陷表征:通过X射线衍射(XRD)分析单晶材料位错密度(<10^3/cm²)及晶格畸变率(≤0.01%)
3. 杂质分布图谱:利用二次离子质谱(SIMS)进行三维元素分布扫描(横向分辨率0.1μm)
4. 热稳定性测试:差示扫描量热法(DSC)测定熔区移动温度梯度(精度±0.5℃)
5. 电学性能验证:四探针法测量电阻率(0.1-10000 Ω·cm范围),霍尔效应仪测定载流子浓度(10^10-10^20 cm^-3)
1. 半导体级多晶硅:纯度要求≥99.9999999%(9N),应用于集成电路衬底材料
2. 核级锆合金:氧含量≤800 ppm,氢含量≤25 ppm
3. 高纯金属单晶:包括钨(W)、钼(Mo)、铌(Nb)等难熔金属
4. 稀土氧化物晶体:氧化钇(Y₂O₃)、氧化镧(La₂O₃)等光学材料
5. 超导材料:铌钛(Nb-Ti)、钇钡铜氧(YBCO)等合金体系
1. ASTM E1504-11:辉光放电质谱法测定高纯金属中痕量杂质
2. ISO 20283:2017:电子背散射衍射(EBSD)晶体取向分析
3. GB/T 13301-2019:金属材料电阻率测量方法
4. ISO 17025:2017:实验室质量体系通用要求
5. GB/T 4336-2016:火花源原子发射光谱分析方法
6. ASTM F42-20:半导体材料霍尔效应测试标准
1. Thermo Fisher ELEMENT GDMS:辉光放电质谱仪,配备双聚焦磁式质量分析器
2. Bruker D8 ADVANCE XRD:铜靶X射线源(λ=1.5406Å),测角仪精度0.0001°
3. Cameca IMS 7f SIMS:液态金属离子枪(Ga+源),质量分辨率>20,000
4. Netzsch STA 449 F5 Jupiter:同步热分析仪(DSC-TG),温度范围RT-1600℃
5. Agilent 5500 AFM:原子力显微镜,扫描范围100μm×100μm×10μm
6. Lake Shore 8404 Hall System:低温霍尔效应仪(77-400K),磁场强度1T
7. Oxford Instruments AZtec HKL EBSD:电子背散射衍射系统,空间分辨率50nm
8. Keysight B2902A SMU:精密源表模块,电流分辨率10fA
9. PerkinElmer Optima 8300 ICP-OES:电感耦合等离子体发射光谱仪,波长范围165-782nm
10. ZEISS Crossbeam 550 FIB-SEM:聚焦离子束扫描电镜,束流范围1pA-50nA
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
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